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C-43型多點(diǎn)光源曝光頭高精度國產(chǎn)光刻機(jī)
簡(jiǎn)要描述:

C-43型多點(diǎn)光源曝光頭高精度國產(chǎn)光刻機(jī)主要用途是在中小規(guī)模集成電路、半導(dǎo)體元器件和聲表面波器件的研制和生產(chǎn)中使用。C-43的出色之處在于其先進(jìn)的找平機(jī)構(gòu),這使得它適用于對(duì)不同類型的材料進(jìn)行曝光,包括硅片、玻璃片、陶瓷片、銅片、不銹鋼片和寶石片等。

  • 產(chǎn)品型號(hào):
  • 廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家
  • 更新時(shí)間:2024-09-09
  • 訪  問  量:225

詳細(xì)介紹

品牌crisoptical/長(zhǎng)恒榮創(chuàng)用途1中小規(guī)模集成電路研制生產(chǎn)
用途2半導(dǎo)體元器件研制生產(chǎn)用途3聲表面波器件研制生產(chǎn)
曝光頭多點(diǎn)光源出射光斑直徑不超過110mm
曝光時(shí)間通過0.1~999.9秒的時(shí)間繼電器進(jìn)行設(shè)定分辨率不低于1μm
曝光面積不小于φ100mm曝光不均勻性小于±4%
控制膜版尺寸5英寸曝光燈功率350W

C-43型多點(diǎn)光源曝光頭高精度國產(chǎn)光刻機(jī)

C-43型多點(diǎn)光源曝光頭高精度國產(chǎn)光刻機(jī)


C-43型國產(chǎn)高精度光刻機(jī)主要用途是在中小規(guī)模集成電路、半導(dǎo)體元器件和聲表面波器件的研制和生產(chǎn)中使用。C-43的出色之處在于其先進(jìn)的找平機(jī)構(gòu),這使得它適用于對(duì)不同類型的材料進(jìn)行曝光,包括硅片、玻璃片、陶瓷片、銅片、不銹鋼片和寶石片等。


C-43型國產(chǎn)高精度光刻機(jī)的工作方式是一次性光刻曝光,即一次完成曝光過程。以下是其主要技術(shù)指標(biāo):

配置壹件承片臺(tái),其尺寸可以根據(jù)用戶需求進(jìn)行制造。

曝光頭采用多點(diǎn)光源,具備以下特性:

出射光斑直徑不超過110mm。

在直徑為100mm的范圍內(nèi),光的不均勻性小于±4%。

能夠在真空密封條件下進(jìn)行曝光。

曝光時(shí)間可以通過0.1~999.9秒的時(shí)間繼電器進(jìn)行設(shè)定。

汞燈的位置可以通過精密的x、y、z調(diào)節(jié)裝置進(jìn)行調(diào)整,分別可以調(diào)節(jié)±5毫米。

具備風(fēng)扇冷卻裝置。

分辨率不低于1μm。

具備真空吸片功能。

具備真空密封和反吹氣的功能,通過調(diào)節(jié)密封真空的大小可以實(shí)現(xiàn)硬接觸曝光(密封真空≤-0.05 Mpa)、軟接觸曝光(密封真空在-0.05Mpa~-0.02Mpa之間)和微力接觸曝光(密封真空≥-0.02Mpa)。


C-43型多點(diǎn)光源曝光頭高精度國產(chǎn)光刻機(jī)主要配置:

一臺(tái)多點(diǎn)光源曝光頭,支持一次性曝光。

曝光面積不小于φ100mm。

曝光不均勻性小于±4%。

曝光強(qiáng)度不低于15mw。

曝光分辨率不高于2μm。

曝光模式為單面曝光。

控制膜版尺寸為5英寸。

基片尺寸為100mm×100mm,厚度不超過5mm。

曝光燈功率為350W。

曝光定時(shí)范圍為0~999.9秒,可調(diào)。

電源要求為單相AC 220V 50Hz,功耗不超過1kW。

需要潔凈壓縮空氣壓力不低于0.4Mpa。

可以實(shí)現(xiàn)真空度在-0.07Mpa~-0.09Mpa之間。

尺寸為700×650×1200毫米(長(zhǎng)×寬×高),重量約為110kg。

備件包括一臺(tái)真空泵、一只汞燈和15米φ8氣管。


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